红外焦平面阵列技术的发展现状

• 作者: 孙志君
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 工学
• 关键词: 红外焦平面阵列 非致冷 测热辐射计
• 年，卷（期）: 2000,（z1）
• 所属期刊栏目: 综合评述
• 页码范围: 29-32
• 页数: 4页
• 分类号: TN214
• 字数: 4949字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5868.2000.z1.007

摘要

文章评述各种红外焦平面阵列技术的发展现状，其中，光量子型红外焦平面阵列包括Ⅱ-Ⅵ族HgCdTe三元化合物阵列、Ⅲ-V族InSb二元、InGaAs和GaAiAs三元化合物阵列、PtSi和非本征硅阵列技术，热型红外焦平面阵列包括Si、金属微测热辐射计、多晶硅热电堆和钡锶钛(BST)等热释电-铁电阵列，展望了该技术的发展前景。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙志君		2	43	1.0	2.0