吸水剖面测井沾污控制与校正处理

• 作者: 何茂东 覃远庆
• 来源期刊: 测井技术
• 关键词: 吸水剖面 污染防治 示踪剂 解释模型
• 年，卷（期）: 2000,（2）
• 所属期刊栏目: 处理解释
• 页码范围: 113-117
• 页数: 5页
• 分类号: P631
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-1338.2000.02.008

摘要

对吸水剖面测井中沾污形成的原因进行了分析,提出降低示踪剂的比强度和注入"冷球"两种控制吸水剖面测井沾污的新工艺.从理论上分析了如何对沾污进行校正,建立了沾污校正的解释模型.实际结果表明,对沾污进行校正后提高了吸水剖面测井的解释精度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	何茂东		1	9	1.0	1.0
2	覃远庆		1	9	1.0	1.0