低表面活性剂/硅比率中有序介孔材料的合成

• 作者: 严东生 施剑林 王连洲 禹剑 阮美玲
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 工学
• 关键词: 介孔 硅酸铝 表征
• 年，卷（期）: 2000,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 55-61
• 页数: 7页
• 分类号: TM285
• 字数: 2632字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2000.01.010

摘要

以AlCl3.6H2O为铝源,在低表面活性剂/硅摩尔比(0.12)的体系中,合成Si/Al比在16～64范围内变化的有序介孔硅酸铝材料. 用XRD、TEM、FTIR及氮吸附等测试手段对材料进行了分析. 当NaOH/Si比从0.2增加到0.6时,获得的有序介孔材料结构将由六角相(MCM-41)变成立方相(MCM-48). 当材料中铝含量超过一定值时,有序介孔材料品质下降. XRD分析表明,用铝原子取代硅原子将导致晶格增大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	施剑林	中国科学院上海硅酸盐研究所高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室	72	1280	19.0	33.0
2	严东生	中国科学院上海硅酸盐研究所高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室	38	902	15.0	29.0
3	王连洲	中国科学院上海硅酸盐研究所高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室	8	330	8.0	8.0
4	禹剑	中国科学院上海硅酸盐研究所高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室	8	378	8.0	8.0
5	阮美玲	中国科学院上海硅酸盐研究所高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室	19	186	10.0	13.0