低阻α-Ta栅电极材料的制备与研究

• 作者: 刘宏宇 杨柏梁 王刚 赵超 黄锡珉
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: α-Ta 直流磁控溅射 x射线衍射 方块电阻
• 年，卷（期）: 2000,（1）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 28-34
• 页数: 7页
• 分类号: TN321.5|O484.4
• 字数: 2852字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-2780.2000.01.005

摘要

研究了溅射Ta膜的电学和结构特性与N2气分压的关系.并确定了电学性能稳定低阻α-Ta薄膜(电阻率34μΩ·cm)的制备工艺条件.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄锡珉		17	391	10.0	17.0
2	杨柏梁		9	76	5.0	8.0
3	王刚		2	30	2.0	2.0
4	赵超	吉林大学电子工程系	7	54	4.0	7.0
5	刘宏宇	吉林大学电子工程系	12	82	6.0	9.0