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平板CRT的发展趋势
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了解FPD的发展,感知CRT的未来
FPD
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真空电子技术
主办单位：
北京真空电子技术研究所
出版周期：
双月刊
ISSN：
1002-8935
CN：
11-2485/TN
开本：
大16开
出版地：
北京749信箱7分箱
邮发代号：
创刊时间：
1959
语种：
chi
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2372
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