表面凹陷对等离子体浸没离子注入均匀性的影响

• 作者: 刘爱国 曾照明 朱箭豪 汤宝寅 王小峰 王松雁 田修波
• 来源期刊: 计算物理
• 学科: 物理学
• 关键词: 等离子体浸没离子注入 鞘层 数值模拟
• 年，卷（期）: 2000,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 449-454
• 页数: 6页
• 分类号: O53
• 字数: 3265字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-246X.2000.04.018

摘要

利用二维流体模型和数值计算方法模拟了等离子体浸没离子注入(PⅢ)中，具有圆弧凹槽的平面靶周围的鞘层扩展情况，计算了鞘层扩展过程中的电势分布、离子速度和离子密度变化，获得了沿靶表面的离子入射角度和注入剂量的分布情况，为等离子体浸没离子注入处理复杂形状靶提供了理论基础。