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分布串联横向电阻Spindt型FEA的研究
分布串联横向电阻Spindt型FEA的研究
作者:
姚保纶
张金驰
李德杰
王炜
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
Spindt型FEA
横向电阻层
光刻
电子束蒸发
摘要:
提出了一种新型的分布串联横向电阻Spindt型FEA的制作工艺.通过溅射的办法制备了各层电极、绝缘层以及FEA电阻层.利用磁增强反应离子刻蚀设备,刻蚀出Mo薄膜电极图案和直径1μm,深度1μm的SiO2绝缘层圆孔.利用电子束双源蒸发设备,蒸发Al和Mo薄膜,得到Mo的微尖阵列,制成了分布串联横向电阻Spindt型FEA.最后得到了常规条件下可测量的场发射.
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文献信息
篇名
分布串联横向电阻Spindt型FEA的研究
来源期刊
微细加工技术
学科
工学
关键词
Spindt型FEA
横向电阻层
光刻
电子束蒸发
年,卷(期)
2000,(2)
所属期刊栏目
电子束技术
研究方向
页码范围
13-18
页数
6页
分类号
TN305
字数
2687字
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
李德杰
清华大学电子工程系
34
152
8.0
10.0
2
姚保纶
清华大学电子工程系
7
18
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3
王炜
清华大学电子工程系
15
55
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张金驰
清华大学电子工程系
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研究主题发展历程
节点文献
Spindt型FEA
横向电阻层
光刻
电子束蒸发
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
微细加工技术
主办单位:
中国电子科技集团公司第48研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1003-8213
CN:
43-1140/TN
开本:
大16开
出版地:
湖南省长沙市
邮发代号:
创刊时间:
1983
语种:
chi
出版文献量(篇)
672
总下载数(次)
2
总被引数(次)
4940
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