平面曝光型光造型装置的研究

• 作者: 于殿泓 山本昌彦 郭俊杰
• 来源期刊: 西安理工大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 平面曝光 立体光成型法 光敏树脂 热敏色带
• 年，卷（期）: 2000,（1）
• 页码范围: 65-68
• 页数: 4页
• 分类号: TG665
• 字数: 3117字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-4710.2000.01.015

摘要

微型光造型法的一个很大的缺点是构造物的制造时间长.为了解决这一问题,在报告微型光固化立体成型法现状的基础上,提出了一种新颖的平面曝光型光造型方案,设计并制作了实验装置,利用热敏色带制作微型平面掩膜,进行了平面固化成型实验.实验结果表明, 利用平面曝光型光造型方案进行成型,单层硬化时间可缩短至120 s.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	于殿泓	西安理工大学机械与精密仪器工程学院	35	133	7.0	9.0
2	郭俊杰	西安理工大学机械与精密仪器工程学院	22	215	8.0	14.0
3	山本昌彦	日本国近畿大学理工学部	2	14	2.0	2.0