用于聚焦型场发射阵列的Ni-SiO2透明电阻薄膜

• 作者: 姚宝纶 张金驰 李德杰 葛常锋
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 场发射显示器 金属陶资材料 自对准光刻
• 年，卷（期）: 2000,（3）
• 所属期刊栏目: 薄膜技术
• 页码范围: 53-62
• 页数: 10页
• 分类号: TN304.55
• 字数: 4773字
• 语种: 中文

摘要

为用自对准技术制作聚焦型发射阵列(FFEA)的聚焦极,要求FFEA的电阻层能透过光刻用近紫外光.为此提出用共溅射法制作Ni-SiO2金属陶瓷电阻层.研究结果表明,当适当调整Ni和SiO2成份比例,可得到既能满足方阻要求又不妨碍光刘的电阻层.同时时此电阻层的电镜微观形貌,能谱成份分析,方阻及透光率进行了讨论.最后,给出一个利用此电阻层制作场发射聚焦电极的实例.