常压化学气相沉积法氮氧化硅薄膜性能的研究

• 作者: 孟祥森 杨辉 葛曼珍 马青松
• 来源期刊: 硅酸盐通报
• 学科: 工学
• 关键词: 氮氧化硅 APCVD 硬度 高温氧化性 表面改性
• 年，卷（期）: 2000,（2）
• 所属期刊栏目: 研究工作快报
• 页码范围: 19-21
• 页数: 3页
• 分类号: TQ17
• 字数: 1890字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-1625.2000.02.006

摘要

我们用常压化学气相沉积法(APCVD),以SiH4和NH3为先驱体,在较低的温度(＜700℃)下制备氮氧化硅(Si-O-N)薄膜,并对其性能进行了研究.研究结果表明氮氧化硅薄膜能使改性后平板玻璃硬度提高40%,并具有良好的抗高温氧化性,这种薄膜在材料表面改性领域有着广阔的应用前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨辉	浙江大学材料系硅材料科学国家重点实验室	356	3707	28.0	43.0
2	马青松	浙江大学材料系硅材料科学国家重点实验室	3	35	3.0	3.0
3	葛曼珍	浙江大学材料系硅材料科学国家重点实验室	8	170	5.0	8.0
4	孟祥森	浙江大学材料系硅材料科学国家重点实验室	2	9	2.0	2.0