LIGA技术基础研究

• 作者: 周道炳 孙华燕 李生良
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: LIGA技术 光刻 掩膜 电铸
• 年，卷（期）: 2000,（1）
• 页码范围: 38-41
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2378字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-924X.2000.01.009

摘要

阐述了LIGA技术的组成及特点。对LIGA工艺掩膜、X射线光刻、电铸及塑铸等进行了工艺原理分析。用一次成型法制作了以聚酰亚胺为衬基、以Au为吸收体的X射线光刻掩膜。简单介绍了这种掩膜的制作工艺过程，并用这种掩膜在北京电子对撞机国家实验室进行了同步辐射X射线光刻，得到了深度为500μm，深宽比达8.3的PMMA材料的微型电磁马达联轴器结构。给出掩膜和X射线光刻照片。同时，对 Au、Ni等金属材料的厚膜电铸进行了工艺研究。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙华燕		59	701	15.0	23.0
2	李生良		3	95	3.0	3.0
3	周道炳		2	63	1.0	2.0