Bi4Ti3O12铁电薄膜X射线光电子能谱研究

• 作者: 刘希玲 尚淑霞 张寅 王少伟 王弘 王民 齐尚奎
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 铁电薄膜 化学溶液沉积法 X射线光电子能谱 Si扩散
• 年，卷（期）: 2000,（2）
• 页码范围: 168-170
• 页数: 3页
• 分类号: O484.42|O738
• 字数: 1428字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2000.02.015

摘要

本文采用化学溶液沉积(CSD)工艺在Si(100)衬底上制备了Bi4Ti3O12铁电薄膜,这种薄膜的X射线衍射(XRD)结果显示其具有较好的结晶性.运用X射线光电能谱仪(XPS)对薄膜的结构进行了研究,分析结果表明,衬底中Si向镀在其上的Bi4Ti3O12膜层内扩散,影响扩散的主要因素是膜厚及退火温度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王民	山东大学晶体材料国家重点实验室	27	290	7.0	16.0
2	张寅		5	24	2.0	4.0
6	王弘	山东大学晶体材料国家重点实验室	23	157	7.0	12.0
7	尚淑霞	山东大学晶体材料国家重点实验室	11	47	3.0	6.0
8	王少伟	山东大学晶体材料国家重点实验室	13	35	3.0	5.0
9	齐尚奎	中国科学院兰州化学物理研究所国家重点实验室	18	123	6.0	10.0
10	刘希玲		7	13	3.0	3.0