多弧离子镀TiN涂层结合力的影响因素

• 作者: 叶卫平 孙伟 宫秀敏 张覃铁 朱小清
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: 涂层 多弧离子镀 TiN 结合力
• 年，卷（期）: 2000,（8）
• 所属期刊栏目: 离子镀技术
• 页码范围: 31-32
• 页数: 2页
• 分类号: TG174.444
• 字数: 2362字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-1560.2000.08.016

摘要

选择 W6Mo5Cr4V2、3Cr2W8V和GCr15等材料研究了多弧离子镀TiN涂层与基体的结合力。结果表明，基体表面粗糙度越小、硬度越高，涂层与基体的结合力越好，涂层厚度以2．5～3．5μm为最佳，含V量高的基体和具有强烈TiN(111)择优取向的涂层结合力好。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙伟		9	212	7.0	9.0
2	宫秀敏		9	212	7.0	9.0
3	叶卫平		9	224	7.0	9.0
4	张覃铁		2	38	2.0	2.0
5	朱小清		10	188	7.0	10.0