多弧离子镀工艺对TiN/Ti与Cr/Cu界面及微结构的影响

• 作者: 刘新 林秀华
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 多弧离子镀 氮化钛 界面形成 微结构
• 年，卷（期）: 2000,（11）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:结构、热学和力学性质
• 页码范围: 2220-2224
• 页数: 5页
• 分类号: O4
• 字数: 2197字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2000.11.020

摘要

用多弧离子镀技术在铜基上电镀Cr/Ni层进行不同工艺条件下多弧离子沉积TiN/Ti实验.借助X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)研究了TiN/Ti与Cr/Cu接触界面形成、微结构及其组分与形貌.XRD分析显示,薄膜表面组分包含TiN,Ti2N多晶相外,还包含一些Cr-Ti的金属间化合物等.显然,TiN,Ti2N在表面上已形成.SEM观察指出,在90℃制备的表面膜具有不平整的类枝状结晶结构.随着温度升高至170℃,得到精细TiN/Ti覆盖层表面,XRD峰强度增大.