SiON薄膜中氢的研究

• 作者: 孟祥森 季振国 杨辉 葛曼珍 袁骏 魏文霖
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 氮氧化硅 薄膜 性能 杂质 氢
• 年，卷（期）: 2000,（3）
• 所属期刊栏目: 材料综述
• 页码范围: 48-49
• 页数: 2页
• 分类号: TB3
• 字数: 2144字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2000.03.018

摘要

氮氧化硅(SiON)薄膜是一种新型的薄膜材料,具有优良的充电性能、机械性能、钝化性能和化学稳定性能,但杂质氢的存在限制了它的应用.详细阐述了氮化硅薄中氢杂质的存在活动及其对薄膜性能的影响,并提出了降低氢含量的合理方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孟祥森		8	46	4.0	6.0