电化学法研究钼系缓蚀剂

• 作者: 张孟琴 陈怀超
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 学科: 工学
• 关键词: 钼酸盐 缓蚀剂 动电位慢扫描
• 年，卷（期）: 2000,（1）
• 页码范围: 9-14
• 页数: 6页
• 分类号: TG1
• 字数: 3106字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-227X.2000.01.003

摘要

用动电位慢扫描法研究了钼系缓蚀剂在去离子水中和含5ppm Cl-的去离子水中对A3钢的缓蚀性能,并与200ppm的K2CrO4在同样条件下对A3钢的缓蚀性能作了比较.在5ppm Cl-的去离子水的敞开体系中,100ppm Na2MoO4的缓蚀性能与200ppm的K2CrO4相当;复合缓蚀剂Na2MoO4(12ppm)+NaNO2(23ppm)+ZnSO4(5ppm)+十二酰基肌氨酸钠(100ppm)的性能优于200ppm K2CrO4; 复合缓蚀剂Na2MoO4(86ppm)+Na2SiO3(114ppm)的性能显著优于200ppm的K2CrO4.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈怀超		2	16	2.0	2.0
2	张孟琴		6	16	2.0	4.0