热丝辅助射频CVD C3N4薄膜

• 作者: 严辉 吴现成 王博 贺德衍 陈光华
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 化学气相沉积 氮化碳薄膜 X射线衍射 扫描电镜 硬度
• 年，卷（期）: 2000,（3）
• 页码范围: 275-279
• 页数: 5页
• 分类号: O781
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2000.03.013

摘要

采用热丝辅助射频等离子体增强化学气相沉积(CVD)方法直接在Si(100)衬底上制备了多晶C3N4薄膜.X射线衍射(XRD)测试表明薄膜同时含有α-C3N4和β-C3N4晶相以及未知结构.傅立叶变换红外吸收谱(FTIR)表明薄膜内的C-N, C＝N和 C≡N 键的吸收峰分别位于1237,1625和2191cm-1.利用扫描电子显微镜(SEM)观测到线度约为2μm、横截面为六边形的β-C3N4晶粒.纳米压痕法测得薄膜的硬度最高可达72.66GPa.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	严辉	北京工业大学应用物理系	178	1225	16.0	29.0
2	贺德衍	兰州大学物理系	68	559	13.0	19.0
3	吴现成	兰州大学物理系	9	165	6.0	9.0
4	陈光华	北京工业大学应用物理系	65	396	11.0	16.0
5	王博	北京工业大学应用物理系	17	57	4.0	7.0