YBCO超导薄膜的等离子体氟化研究

• 作者: 傅泽禄 冯一军 刘雷 吉争鸣 尹晓波 康琳 杨森祖 王晓书 赵恩海 顾大振
• 来源期刊: 低温物理学报
• 学科: 物理学
• 年，卷（期）: 2000,（6）
• 页码范围: 449-453
• 页数: 5页
• 分类号: O4
• 字数: 2317字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-3258.2000.06.009

摘要

本文利用CF4气体,对YBCO薄膜表面进行可控的rf等离子体氟化处理.AFM与XPS 的分析结果表明:适当的氟化所起的作用主要为化学反应作用.氟化可造成Y(3d)与O(1 s)诸元素的本征峰相对强度减少,甚至消失;对Ba(3d),Ba(4d)和其它元素也有影响.本文的研究为利用等离子体氟化YBCO膜形成弱化势垒层提供了初步结果.