二元光栅照明对光刻系统成象特性的影响

• 作者: 冯伯儒 姚汉民 罗先刚 陈旭南
• 来源期刊: 光电工程
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻系统 二元光栅照明 成象特性 光强度 传递函数
• 年，卷（期）: 2000,（3）
• 所属期刊栏目: 干涉与衍射
• 页码范围: 1-3
• 页数: 3页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 957字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-501X.2000.03.001

摘要

针对光刻系统分辨力和焦深的矛盾,详细研究了二元光栅照明对硅片上光强以及对光刻系统传输频率的影响.结果表明, 二元光栅照明可显著提高光强的对比度,改善成象系统的频率传递函数,是一种比较理想的离轴照明技术.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姚汉民	中国科学院光电所技术研究微细加工光学技术国家重点实验室	44	355	9.0	16.0
2	陈旭南	中国科学院光电所技术研究微细加工光学技术国家重点实验室	39	212	9.0	13.0
3	冯伯儒	中国科学院光电所技术研究微细加工光学技术国家重点实验室	30	293	9.0	16.0
4	罗先刚	中国科学院光电所技术研究微细加工光学技术国家重点实验室	52	315	9.0	15.0