光刻胶灰化技术用于同步辐射闪耀光栅制作

• 作者: 傅绍军 周洪军 徐向东 洪义麟 陶晓明 霍同林
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 全息光刻 离子束刻蚀 光刻胶灰化工艺
• 年，卷（期）: 2000,（3）
• 所属期刊栏目: 离子刻蚀技术
• 页码范围: 35-38
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7|TB65
• 字数: 1897字
• 语种: 中文

摘要

在分析光刻胶光栅浮雕图形缺陷成因的基础上,首次将光刻胶灰化工艺引入到全息-离子束刻蚀制作闪耀光栅工艺中,并成功地为国家同步辐射实验室光化学站制作了12001/mm,闪耀波长为130nm的锯齿槽形光栅.测试结果表明光刻胶灰化处理对制作大面积优质的光刻胶光栅非常有效和实用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐向东	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	74	701	15.0	21.0
2	洪义麟	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	56	478	13.0	19.0
3	霍同林	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	33	178	9.0	12.0
4	陶晓明	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	9	102	5.0	9.0
5	周洪军	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	41	221	10.0	13.0
6	傅绍军	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	13	227	9.0	13.0