几种低压气相沉积技术制备立方氮化硼膜的新进展

• 作者: 石成儒 邱东江 郝天亮
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 化学
• 关键词: c-BN膜 PVD CVD
• 年，卷（期）: 2000,（1）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 1-5
• 页数: 5页
• 分类号: O64|TQ42
• 字数: 5626字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2000.01.001

摘要

介绍了c-BN的优异特性及应用前景.评述了c-BN膜的几种低压物理气相沉积(PVD)和低压化学气相沉积(CVD)制备方法,分析其成膜特点及对c-BN形成有显著影响的工艺参数.介绍了当前c-BN膜研究取得的成果,对如何提高成膜质量提出了自己的一些看法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邱东江	浙江大学西溪校区中心实验室	22	144	8.0	11.0
2	石成儒	浙江大学西溪校区中心实验室	6	55	5.0	6.0
3	郝天亮	浙江大学西溪校区中心实验室	5	33	4.0	5.0