具有光敏下陷包层的B/Ge共掺光敏光纤的研制

• 作者: 关雅莉 简水生 龚岩栋
• 来源期刊: 压电与声光
• 学科: 工学
• 关键词: 光纤 光栅 光敏性 包层模 耦合
• 年，卷（期）: 2000,（4）
• 所属期刊栏目: 声光与光纤技术
• 页码范围: 222-224
• 页数: 3页
• 分类号: TN929.1
• 字数: 2279字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-2474.2000.04.004

摘要

紫外光纤光栅的包层模造成的损耗限制了光栅在波分复用系统中的使用.文章分析了同时具有下陷内包层和光敏内包层的光敏光纤可以极大地抑制包层模耦合,并采用MCVD工艺制作出了硼和锗共掺(B/ Ge)的带光敏的下陷内包层的光纤,经写入紫外光纤光栅证实该光敏光纤确实极大地抑制了包层模耦合.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	简水生	北方交通大学光波技术研究所	134	1542	21.0	31.0
2	龚岩栋	北方交通大学光波技术研究所	9	48	5.0	6.0
3	关雅莉	北方交通大学光波技术研究所	4	24	2.0	4.0