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摘要:
以微齿轮图形结构作为规整模板,用约束刻蚀剂层技术对GaAs样品表面进行了加工刻蚀.在有捕捉剂H3AsO3存在的情况下,规则微齿轮图形能够很好地在样品表面复制.刻蚀结果与没有捕捉剂存在时的刻蚀结果做了比较.另外还测试了不同方法制得膜板的性能,初步探讨了电化学模板的制作工艺.
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文献信息
篇名 用规整膜板对砷化镓的三维微结构图形加工刻蚀
来源期刊 电化学 学科 化学
关键词 约束刻蚀剂层技术 GaAs 捕捉剂 微加工
年,卷(期) 2000,(3) 所属期刊栏目 研究快讯
研究方向 页码范围 253-257
页数 5页 分类号 O646
字数 2467字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1006-3471.2000.03.001
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研究主题发展历程
节点文献
约束刻蚀剂层技术
GaAs
捕捉剂
微加工
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电化学
双月刊
1006-3471
35-1172/O6
大16开
福建省厦门市厦门大学D信箱(化学楼)
34-61
1995
chi
出版文献量(篇)
1802
总下载数(次)
9
相关基金
国家高技术研究发展计划(863计划)
英文译名:The National High Technology Research and Development Program of China
官方网址:http://www.863.org.cn
项目类型:重点项目
学科类型:信息技术
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