亚微米电子束曝光机镜筒光路与结构

• 作者: 刘求益
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 电子束曝光机 光路 结构设计
• 年，卷（期）: 2000,（4）
• 所属期刊栏目: 电子束技术
• 页码范围: 9-13
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2008字
• 语种: 中文

摘要

介绍了亚微米电子束曝光机光路与结构设计,该电子光学系统采用透镜内偏转设计,系统象差小,偏转灵敏度高,工件面上电流密度大.通过调试和使用,电子束流、最小电子束斑直径等主要设计指标均达要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘求益		1	0	0.0	0.0