硬质合金基体上金刚石膜的XRD研究

• 作者: 余忠民 匡同春 叶兰莹 成晓玲 钟万里
• 来源期刊: 硬质合金
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石膜 微观结构 残余应力 粘附性能
• 年，卷（期）: 2000,（4）
• 所属期刊栏目: 材料工艺
• 页码范围: 233-235
• 页数: 3页
• 分类号: TG13
• 字数: 2122字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-7292.2000.04.010

摘要

采用直流等离子体射流CVD法在硬质合金(WC+8wt.%Co)基体上生长金刚石膜，主要借助XRD分析方法对CVD金刚石膜的微观结构和残余应力进行了研究，探讨了CVD金刚石膜中残余应力的形成及其对金刚石膜粘附性能的影响。研究结果表明：CVD金刚石膜中通常存在GPa数量级的残余压应力，膜中存在适中的残余压应力，有利于CVD金刚石膜获得最佳的粘附性能。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	成晓玲		84	1166	15.0	32.0
2	钟万里		16	93	6.0	9.0
3	匡同春		44	550	11.0	22.0
4	叶兰莹		2	15	2.0	2.0
5	余忠民		2	10	2.0	2.0