苯并三氮唑和4-羧基苯并三氮唑对铜缓蚀作用的光电化学比较

• 作者: 周国定 姚念 张红伟 徐群杰 陆柱
• 来源期刊: 华东理工大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: BTA 4CBTA 铜电极 光电化学 交流阻抗
• 年，卷（期）: 2000,（2）
• 页码范围: 172-176
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.42
• 字数: 3295字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-3080.2000.02.015

摘要

采用光电化学方法和交流阻抗方法将不同浓度的BTA(苯并三氮唑)和4CBTA(4-羧基苯并三氮唑)在硼砂缓冲溶液(pH9.2)中对铜电极的缓蚀性能作了比较.发现在阳极向电位扫描中,一定浓度的BTA作用下,铜电极光响应由p型转化为n型,并可依此判断缓蚀剂的缓蚀性能,n型光响应越大,缓蚀剂的缓蚀性能越好;而在4CBTA作用下,铜电极光响应保持p型,然其阴极向扫描中最大光电流变化明显,并可据此判断缓蚀剂的缓蚀性能,最大阴极光电流愈大,缓蚀效果越好.同时这两种缓蚀剂均可用Φv和某一较负电位下的阴极光电流iph的大小来判断缓蚀剂的缓蚀性能,Φv和iph越负,缓蚀性能越好,交流阻抗方法的结果和光电化学的结果相一致.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周国定	上海电力学院电化学研究室	97	1428	22.0	32.0
2	陆柱	华东理工大学防腐蚀中心	86	2008	28.0	42.0
3	徐群杰	华东理工大学防腐蚀中心	1	12	1.0	1.0
4	姚念	上海电力学院电化学研究室	1	12	1.0	1.0
5	张红伟	上海电力学院电化学研究室	1	12	1.0	1.0