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摘要:
报道了低压MOCVD生长的同-GaN薄膜不同位置的微区Raman散射光谱.观测到了微区结构不完整对Raman谱的影响.通过X射线衍射分析,证实了该样品晶体质量是不均匀的,而且微结构缺陷的存在是导致回摆曲线展宽的主要原因.结合Hall测量结果,对GaN薄膜的A1(LO)模式的移动进行了电声子相互作用分析,认为A1(LO)模式的移动可能与电声子相互作用无关,而是受内部应力分布不均匀的影响所致.
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关键词云
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文献信息
篇名 GaN薄膜的微区Raman散射光谱
来源期刊 半导体学报 学科 化学
关键词 GaN 微区Raman散射 X-射线衍射
年,卷(期) 2000,(6) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 554-558
页数 5页 分类号 TN304|O657
字数 2820字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-4177.2000.06.006
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 张国义 北京大学物理系介观物理重点实验室 49 229 9.0 13.0
2 童玉珍 北京大学物理系介观物理重点实验室 16 63 5.0 7.0
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研究主题发展历程
节点文献
GaN
微区Raman散射
X-射线衍射
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体学报(英文版)
月刊
1674-4926
11-5781/TN
大16开
北京912信箱
2-184
1980
eng
出版文献量(篇)
6983
总下载数(次)
8
总被引数(次)
35317
相关基金
国家高技术研究发展计划(863计划)
英文译名:The National High Technology Research and Development Program of China
官方网址:http://www.863.org.cn
项目类型:重点项目
学科类型:信息技术
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