电沉积光亮Ni-Co合金工艺的研究

• 作者: 刘业翔 刘开宇 周向阳 李庆余 杨建红
• 来源期刊: 电镀与环保
• 学科: 工学
• 关键词: 电沉积 光亮Ni-Co合金镀层 添加剂
• 年，卷（期）: 2000,（3）
• 所属期刊栏目: 电镀
• 页码范围: 14-16
• 页数: 3页
• 分类号: TQ153.2
• 字数: 1628字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-4742.2000.03.004

摘要

通过大量实验, 研究硫酸镍-硫酸钴-氯化钠体系中得到钴含量40%以下的光亮Ni-Co合金镀层的最佳添加剂; 并研究了影响镀层中钴含量的各因素, 从而得出了光亮镀层中钴含量25%左右的工艺.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨建红	中南工业大学冶金系	5	114	5.0	5.0
2	李庆余	中南工业大学冶金系	4	63	4.0	4.0
3	刘业翔	中南工业大学冶金系	8	145	6.0	8.0
4	周向阳	中南工业大学冶金系	5	42	4.0	5.0
5	刘开宇	中南工业大学化学化工学院	5	42	4.0	5.0