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纳米界面性能在电介质科学中的应用
纳米界面性能在电介质科学中的应用
作者:
何恩广
刘庆峰
尚文宇
原文服务方:
绝缘材料
纳米界面
电介质
摘要:
本文介绍了纳米科学技术中纳米界面的研究及其与电介质性能的联系,综述了纳米界面为绝缘电介质等基本电介质领域研究提供的新思路.
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文献信息
篇名
纳米界面性能在电介质科学中的应用
来源期刊
绝缘材料
学科
关键词
纳米界面
电介质
年,卷(期)
2000,(4)
所属期刊栏目
绝缘技术
研究方向
页码范围
34-37
页数
4页
分类号
TM215.014|TM488
字数
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1009-9239.2000.04.009
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
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1
刘庆峰
15
216
8.0
14.0
2
何恩广
15
162
7.0
12.0
3
尚文宇
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194
9.0
12.0
传播情况
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二级引证文献(3)
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节点文献
纳米界面
电介质
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
绝缘材料
主办单位:
桂林电器科学研究院有限公司
出版周期:
月刊
ISSN:
1009-9239
CN:
45-1287/TM
开本:
大16开
出版地:
邮发代号:
创刊时间:
1966-01-01
语种:
chi
出版文献量(篇)
2892
总下载数(次)
0
总被引数(次)
19598
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