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摘要:
用中子辐照在6H-SiCpn结中引入的复合中心和深能级陷阱解释了SiCpn结辐照后电特性退化的现象,并推导了辐照后SiCpn结理想因子与外加电压的关系,给出了SiCpn结中子辐照电特性退化的模型,模拟结果和实验数据的对比说明关于SiCpn结电特性退化的理论解释是正确的.
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文献信息
篇名 中子辐照下的6H-SiC pn结电特性分析
来源期刊 半导体学报 学科 物理学
关键词 pn结特性 6H-SiC 中子辐照
年,卷(期) 2000,(7) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 691-696
页数 6页 分类号 O475
字数 3740字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-4177.2000.07.013
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 张义门 西安电子科技大学微电子所 129 835 15.0 21.0
2 张玉明 西安电子科技大学微电子所 126 777 15.0 20.0
3 尚也淳 西安电子科技大学微电子所 9 53 4.0 7.0
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研究主题发展历程
节点文献
pn结特性
6H-SiC
中子辐照
研究起点
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研究分支
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引文网络交叉学科
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期刊影响力
半导体学报(英文版)
月刊
1674-4926
11-5781/TN
大16开
北京912信箱
2-184
1980
eng
出版文献量(篇)
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