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中子辐照下的6H-SiC pn结电特性分析
中子辐照下的6H-SiC pn结电特性分析
作者:
尚也淳
张义门
张玉明
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
pn结特性
6H-SiC
中子辐照
摘要:
用中子辐照在6H-SiCpn结中引入的复合中心和深能级陷阱解释了SiCpn结辐照后电特性退化的现象,并推导了辐照后SiCpn结理想因子与外加电压的关系,给出了SiCpn结中子辐照电特性退化的模型,模拟结果和实验数据的对比说明关于SiCpn结电特性退化的理论解释是正确的.
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文献信息
篇名
中子辐照下的6H-SiC pn结电特性分析
来源期刊
半导体学报
学科
物理学
关键词
pn结特性
6H-SiC
中子辐照
年,卷(期)
2000,(7)
所属期刊栏目
研究论文
研究方向
页码范围
691-696
页数
6页
分类号
O475
字数
3740字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:0253-4177.2000.07.013
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
张义门
西安电子科技大学微电子所
129
835
15.0
21.0
2
张玉明
西安电子科技大学微电子所
126
777
15.0
20.0
3
尚也淳
西安电子科技大学微电子所
9
53
4.0
7.0
传播情况
被引次数趋势
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参考文献(1)
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2000(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
2001(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2002(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2003(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2004(1)
引证文献(0)
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2005(1)
引证文献(0)
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2019(2)
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节点文献
pn结特性
6H-SiC
中子辐照
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体学报(英文版)
主办单位:
中国电子学会和中国科学院半导体研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1674-4926
CN:
11-5781/TN
开本:
大16开
出版地:
北京912信箱
邮发代号:
2-184
创刊时间:
1980
语种:
eng
出版文献量(篇)
6983
总下载数(次)
8
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