多弧离子镀沉积温度对TiN涂层性能的影响

• 作者: 叶卫平 孙伟 宫秀敏 张覃轶 朱小清
• 来源期刊: 电加工与模具
• 学科: 工学
• 关键词: TiN涂层 沉积温度 结合力
• 年，卷（期）: 2000,（5）
• 所属期刊栏目: 设计·研究
• 页码范围: 26-28
• 页数: 3页
• 分类号: TG5
• 字数: 2224字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-279X.2000.05.008

摘要

在多弧离子镀设备上沉积了TiN涂层,研究了不同沉积温度下TiN涂层的表面硬度及与基体的结合力.实验结果表明,在保证基体材料不过热的前提下提高沉积温度,有利于提高TiN涂层的性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙伟		9	212	7.0	9.0
2	宫秀敏		9	212	7.0	9.0
3	叶卫平		9	224	7.0	9.0
4	朱小清		10	188	7.0	10.0
5	张覃轶		3	87	3.0	3.0