多孔硅的表面碳膜钝化

• 作者: 向建南 彭景翠 李宏建 瞿述 颜永红
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 多孔硅 碳膜 表面钝化 荧光光谱
• 年，卷（期）: 2000,（2）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 104-108
• 页数: 5页
• 分类号: O472.1
• 字数: 2973字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-7032.2000.02.005

摘要

报道对多孔硅(PS)进行碳膜(CF)钝化处理的结果.红外吸收光谱表明,经钝化处理样品的表面由Si-C、Si-N和Si-O键所覆盖;荧光光谱表明,经钝化处理的样品较未处理的样品发光强度提高4～4.5倍,且发光峰位明显蓝移;存放实验显示,经钝化处理的样品发光强度稳定、发光峰位不变.这些结果表明,正丁胺可以在多孔硅表面形成优良的钝化碳膜,是一种十分有效的多孔硅后处理途径.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李宏建	湖南大学电子材料研究所	66	440	12.0	18.0
2	彭景翠	湖南大学电子材料研究所	110	891	16.0	26.0
3	向建南	湖南大学化学化工学院	63	361	10.0	15.0
4	颜永红	湖南大学电子材料研究所	45	423	10.0	20.0
5	瞿述	湖南大学电子材料研究所	29	178	7.0	12.0