电子浴辅助阴极电弧源活性反应离子镀合成AlN薄膜

• 作者: 李力 潘俊德 田林海 莘海维 贺琦
• 来源期刊: 热加工工艺
• 学科: 工学
• 关键词: 电子浴辅助 冷阴极电弧 反应离子镀 AlN薄膜
• 年，卷（期）: 2000,（4）
• 所属期刊栏目: 工艺技术
• 页码范围: 22-24
• 页数: 3页
• 分类号: TG156.8
• 字数: 2388字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3814.2000.04.009

摘要

利用电子浴辅助阴极电弧源活性反应离子镀法,在Si、Mo和不锈钢等基材上合成AlN薄膜;采用SEM、XRD及IR对薄膜的表面形貌、晶体结构进行了分析.结果表明,用此法可以合成高质量的AlN薄膜,而且具有合成速度快、设备简单等优点,有较好的开发和应用前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	潘俊德	太原理工大学表面工程研究所	49	912	15.0	29.0
2	田林海	太原理工大学表面工程研究所	46	244	9.0	13.0
3	贺琦	太原理工大学表面工程研究所	9	37	4.0	5.0
4	莘海维	太原理工大学表面工程研究所	3	13	3.0	3.0
5	李力	太原理工大学表面工程研究所	2	9	2.0	2.0