用于软磁铁氧体磁芯的气相沉积表面处理新工艺

• 作者: 何水校
• 来源期刊: 磁性材料及器件
• 学科: 工学
• 关键词: 气相沉积 软磁铁氧体 表面处理工艺
• 年，卷（期）: 2000,（4）
• 所属期刊栏目: 工艺与设备
• 页码范围: 48-51
• 页数: 4页
• 分类号: TQ639.2|TF125.8
• 字数: 2103字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3830.2000.04.012

摘要

报道了一种用于软磁铁氧体磁芯的气相沉积(VDP)新工艺,简要介绍了VDP的工艺过程和工艺特点,并对这一新工艺的优点和存在的问题作了初步分析.VDP工艺同样可用于NdFeB等稀土永磁元件的表面处理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	何水校		5	73	4.0	5.0