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X射线光刻技术的现状
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摘要：
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用于X射线光刻对准的图像边缘增强技术
X射线光刻
对准系统
拉普拉斯算法
索贝尔算法
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软X射线
多层膜
用三层胶工艺X射线光刻制作T型栅
X射线光刻
PHEMT
T型栅
三层胶工艺
用于X射线光刻掩模的纳米金刚石膜成核研究
成核
金刚石薄膜
MPCVD
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光机电信息
主办单位：
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
出版周期：
月刊
ISSN：
1007-1180
CN：
22-1250/TH
开本：
大16开
出版地：
吉林省长春市
邮发代号：
12-171
创刊时间：
1958
语种：
chi
出版文献量（篇）
2287
总下载数（次）
1
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7000
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