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二十一世纪硅微电子技术发展趋势
二十一世纪硅微电子技术发展趋势
作者:
王阳元
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硅微电子
集成电路
工艺加工特征尺寸
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篇名
二十一世纪硅微电子技术发展趋势
来源期刊
电子信息:印制电路与贴装
学科
工学
关键词
硅微电子
集成电路
工艺加工特征尺寸
年,卷(期)
2000,(6)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
37-40
页数
4页
分类号
TN405
字数
语种
中文
DOI
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引文网络
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研究来源
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引文网络交叉学科
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电子信息:印制电路与贴装
主办单位:
深圳电子行业协会
出版周期:
月刊
ISSN:
CN:
开本:
出版地:
深圳市南山区南油大道粤海大厦A座9A-9C室
邮发代号:
创刊时间:
语种:
出版文献量(篇)
183
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