抑制有机硅烷偶联剂KH-550在光谱干版乳剂中增长灰雾的途径

• 作者: 张洪奎
• 来源期刊: 影像技术
• 学科: 化学
• 关键词: 硅烷偶联剂 去底层涂布 光谱干版
• 年，卷（期）: 2000,（4）
• 所属期刊栏目: 卤化银感光材料
• 页码范围: 39-40
• 页数: 2页
• 分类号: TQ57|O6
• 字数: 1590字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-0270.2000.04.009

摘要

本文简要介绍了国产光谙干版的去底层涂布工艺实验技术.提出了在去底层涂布工艺过程中,采用稳定剂583、调整有机硅烷偶联剂KH-550的pH值、偶联剂溶液的静置处理等措施是抑制光谙干版乳剂灰雾增长的途径.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张洪奎		2	1	1.0	1.0