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摘要:
从理论上对电子辐照在4H-SiC中引入的缺陷数量和各种缺陷能级进行了分析.结果表明,EH6和EH7缺陷能级在4H-SiC中起着有效复合中心的作用.采用SRH模型来估计电子辐照下4H-SiC的少子寿命,并给出了电子辐照下4H-SiC少子寿命损伤系数的模型.结合具体的测量条件,证明了这个模型是合理的.辐照电子对Si、GaAs和4H-SiC产生的不同影响展示了在高空、高辐照条件下 SiC存在着优势.
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文献信息
篇名 电子辐照下的SiC少子寿命退化模型
来源期刊 半导体学报 学科
关键词 寿命退化模型 SiC 电子辐照
年,卷(期) 2000,(2) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 169-173
页数 5页 分类号
字数 3429字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-4177.2000.02.012
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 张义门 西安电子科技大学微电子所 129 835 15.0 21.0
2 张玉明 西安电子科技大学微电子所 126 777 15.0 20.0
3 尚也淳 西安电子科技大学微电子所 9 53 4.0 7.0
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研究主题发展历程
节点文献
寿命退化模型
SiC
电子辐照
研究起点
研究来源
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期刊影响力
半导体学报(英文版)
月刊
1674-4926
11-5781/TN
大16开
北京912信箱
2-184
1980
eng
出版文献量(篇)
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