用于FEA场发射微尖表面的硅化物薄膜

• 作者: 季旭东
• 来源期刊: 光电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 硅化物 FEA 特性 薄膜 场致发射
• 年，卷（期）: 2000,（2）
• 页码范围: 111-115
• 页数: 5页
• 分类号: TN2
• 字数: 2874字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-488X.2000.02.006

摘要

一些硅的化合物具有良好的场发射特性,如果用作FEA发射微尖表面的薄膜,将能较好地提高FEA的发射特性.本文对这一类硅化物的制作、测量与性能作了说明.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	季旭东		72	192	7.0	13.0