电子束曝光中的邻近效应修正技术

• 作者: 刘明 张建宏 李友 陈宝钦
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 电子束曝光 邻近效应
• 年，卷（期）: 2000,（1）
• 所属期刊栏目: 电子束技术
• 页码范围: 16-20
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2257字
• 语种: 中文

摘要

邻近效应是指电子在抗蚀剂和基片中的散射引起图形的改变,它严重地影响了图形的分辨率.有多种方法对邻近效应进行修正如剂量调整、图形调整等.我们以JBX-5000LS为手段,用三种方法:1图形尺寸修正,2大小图形分类和剂量分配,3图形分层和大小电流混合曝光,对邻近效应进行了修正,均取得较好效果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘明	中国科学院微电子中心光掩模实验室	207	1983	20.0	38.0
2	陈宝钦	中国科学院微电子中心光掩模实验室	50	361	11.0	16.0
3	张建宏	中国科学院微电子中心光掩模实验室	5	56	3.0	5.0
4	李友	中国科学院微电子中心光掩模实验室	4	50	2.0	4.0