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摘要:
通过溅射成膜,合理选择介质基片、膜层结构及溅射工艺参数,合理确定线宽工艺尺寸,严格湿法刻蚀的工艺参数,抵消了侧腐蚀的影响,利用电镀加厚的边缘效应,制造出了导带宽度公差≤±0.01 mm,且满足电讯设计指标的高精度微带板.
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内容分析
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文献信息
篇名 高精度微带板制作工艺研究
来源期刊 电子工艺技术 学科 工学
关键词 溅射成膜 线宽工艺尺寸设计 高精度微带板
年,卷(期) 2000,(4) 所属期刊栏目 新工艺新技术
研究方向 页码范围 174-176
页数 3页 分类号 TN42
字数 3447字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1001-3474.2000.04.010
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 解启林 1 3 1.0 1.0
2 胡骏 1 3 1.0 1.0
3 贾守斌 1 3 1.0 1.0
4 欧光文 1 3 1.0 1.0
传播情况
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2016(1)
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研究主题发展历程
节点文献
溅射成膜
线宽工艺尺寸设计
高精度微带板
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工艺技术
双月刊
1001-3474
14-1136/TN
大16开
太原市115信箱
22-52
1980
chi
出版文献量(篇)
2306
总下载数(次)
10
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