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CVD金刚石薄膜取向生长研究现状
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摘要：
单晶衬底上外延生长金刚石薄膜一直是VCD金刚石技术领域的重要研究方向之一,近年来这方面的研究取得了长足的进步.回顾了金刚石取向膜的研究史,介绍了提高金刚石膜取向度的方法和目前对金刚石取向膜生长过程、生长机理研究取得的进展及金刚石取向膜具有独特优异性能的实验研究.
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CVD金刚石
断裂强度
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研究主题发展历程
节点文献
CVD
金刚石薄膜
取向生长
金刚石取向膜
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
材料保护
主办单位：
武汉材料保护研究所
中国腐蚀与防护学会
中国表面工程协会
出版周期：
月刊
ISSN：
1001-1560
CN：
42-1215/TB
开本：
大16开
出版地：
湖北省武汉宝丰二路126号
邮发代号：
38-30
创刊时间：
1960
语种：
chi
出版文献量（篇）
7754
总下载数（次）
26
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