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摘要:
用MOCVD方法在GaAs衬底上生长了AlGaInP的本征及掺Si或掺Mg三个样品.用椭偏光谱法测量了样品在室温下可见光区的光学常数,并求其介电函数的三级微商谱.用三点比例内插法分析介电函数的三级微商谱,精确地得到样品的带隙Eg、Eg+Δ0以及 Eg以上成对结构跃迁的能量位置,并对其结果加以分析.同时与沟道分析等方法相结合对材料的性能进行了鉴定.
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文献信息
篇名 AlxGa0.51-xIn0.49P光学性质的研究
来源期刊 半导体光电 学科 工学
关键词 半导体薄膜技术 椭偏光谱 三点比例内插 能带隙
年,卷(期) 2000,(2) 所属期刊栏目 研究论文与技术报告
研究方向 页码范围 111-114
页数 4页 分类号 TN304.2+3|TN304.055
字数 2364字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1001-5868.2000.02.010
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 卢菲 山东大学光电系 7 22 3.0 4.0
2 王海涛 山东大学环境工程系 41 247 9.0 13.0
3 魏爱俭 山东大学光电系 27 85 5.0 7.0
4 连洁 山东大学光电系 33 143 7.0 9.0
5 张淑芝 山东大学光电系 8 14 3.0 3.0
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研究主题发展历程
节点文献
半导体薄膜技术
椭偏光谱
三点比例内插
能带隙
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体光电
双月刊
1001-5868
50-1092/TN
大16开
重庆市南坪花园路14号44所内
1976
chi
出版文献量(篇)
4307
总下载数(次)
22
总被引数(次)
22967
相关基金
国家高技术研究发展计划(863计划)
英文译名:The National High Technology Research and Development Program of China
官方网址:http://www.863.org.cn
项目类型:重点项目
学科类型:信息技术
论文1v1指导