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AlxGa0.51-xIn0.49P光学性质的研究
AlxGa0.51-xIn0.49P光学性质的研究
作者:
卢菲
崔德良
张淑芝
王海涛
秦晓燕
连洁
魏爱俭
黄伯标
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
半导体薄膜技术
椭偏光谱
三点比例内插
能带隙
摘要:
用MOCVD方法在GaAs衬底上生长了AlGaInP的本征及掺Si或掺Mg三个样品.用椭偏光谱法测量了样品在室温下可见光区的光学常数,并求其介电函数的三级微商谱.用三点比例内插法分析介电函数的三级微商谱,精确地得到样品的带隙Eg、Eg+Δ0以及 Eg以上成对结构跃迁的能量位置,并对其结果加以分析.同时与沟道分析等方法相结合对材料的性能进行了鉴定.
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文献信息
篇名
AlxGa0.51-xIn0.49P光学性质的研究
来源期刊
半导体光电
学科
工学
关键词
半导体薄膜技术
椭偏光谱
三点比例内插
能带隙
年,卷(期)
2000,(2)
所属期刊栏目
研究论文与技术报告
研究方向
页码范围
111-114
页数
4页
分类号
TN304.2+3|TN304.055
字数
2364字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1001-5868.2000.02.010
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
卢菲
山东大学光电系
7
22
3.0
4.0
2
王海涛
山东大学环境工程系
41
247
9.0
13.0
3
魏爱俭
山东大学光电系
27
85
5.0
7.0
4
连洁
山东大学光电系
33
143
7.0
9.0
5
张淑芝
山东大学光电系
8
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3.0
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参考文献(3)
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参考文献(1)
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1990(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
1992(2)
参考文献(1)
二级参考文献(1)
1995(2)
参考文献(1)
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1998(2)
参考文献(1)
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1999(1)
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2000(0)
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引证文献(0)
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2005(1)
引证文献(0)
二级引证文献(1)
研究主题发展历程
节点文献
半导体薄膜技术
椭偏光谱
三点比例内插
能带隙
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体光电
主办单位:
重庆光电技术研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1001-5868
CN:
50-1092/TN
开本:
大16开
出版地:
重庆市南坪花园路14号44所内
邮发代号:
创刊时间:
1976
语种:
chi
出版文献量(篇)
4307
总下载数(次)
22
总被引数(次)
22967
相关基金
国家高技术研究发展计划(863计划)
英文译名:
The National High Technology Research and Development Program of China
官方网址:
http://www.863.org.cn
项目类型:
重点项目
学科类型:
信息技术
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