HCD法离子镀梯度镀层组成的研究

• 作者: 李世钦 杨耀升
• 来源期刊: 中国表面工程
• 学科: 物理学
• 关键词: HCD法 离子镀 梯度镀层 组成研究
• 年，卷（期）: 2000,（3）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 13-17
• 页数: 6页
• 分类号: O485
• 字数: 4930字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1007-9289.2000.03.004

摘要

一般的高真空高压离子镀会导致加工物表面粗糙、加工物温度上升,因而影响镀层的性质,而HCD法则没有以上这些缺点,极适合于工业应用.研究HCD法在低温240 ℃下,于SKH51热作工具钢上被覆Ti(C,N) 陶瓷梯度镀层,改变反应气体的组成百分比 (C2H2:N2), 来探讨其所形成镀膜的特性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李世钦	台湾成功大学材料科学与工程系	2	1	1.0	1.0
2	杨耀升	台湾成功大学材料科学与工程系	1	0	0.0	0.0