磁约束放电激励的XeCl准分子激光器

• 作者: 丘军林 周小伙 孙海斌 王涓 胡雪金 谷怀民 陈永荣 龚志伟
• 来源期刊: 量子电子学报
• 关键词: 磁约束放电激励 XeCl准分子激光器 Ar及He缓冲气体
• 年，卷（期）: 2000,（2）
• 所属期刊栏目: 激光过程与器件
• 页码范围: 150-156
• 页数: 7页
• 字数: 3508字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-5461.2000.02.009

摘要

本文对激光激励的一种新技术—磁约束放电激励技术在XeCl准分子激光器中的应用进行了实验研究。并分析比较了以Ar或He为缓冲气体时磁约束放电激励对XeCl准分子激光输出的影响。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈永荣	中国科学院安徽光学精密机械研究所	5	6	2.0	2.0
2	王涓	中国科学院安徽光学精密机械研究所	3	10	1.0	3.0
3	胡雪金	中国科学院安徽光学精密机械研究所	6	21	3.0	4.0
4	谷怀民	中国科学院安徽光学精密机械研究所	3	0	0.0	0.0
5	丘军林	华中理工大学激光技术国家重点实验室	9	75	5.0	8.0
6	龚志伟	华中理工大学激光技术国家重点实验室	2	0	0.0	0.0
7	周小伙	华中理工大学激光技术国家重点实验室	2	0	0.0	0.0