使用ECR等离子体沉积和刻蚀非晶碳薄膜

• 作者: 叶超 宁兆元 康健 程珊华 辛煜 马春兰
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 非晶碳薄膜 ECR等离子体 沉积 刻蚀
• 年，卷（期）: 2000,（3）
• 页码范围: 257-263
• 页数: 7页
• 分类号: O484.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2000.03.010

摘要

用苯作源气体在一个微波电子回旋共振等离子体系统中沉积了含氢非晶碳薄膜,研究了沉积参数对膜的生长速率的影响.为了探索该种薄膜在干刻蚀工艺过程中用作掩膜的可能性,还研究了它在氧等离子体中的刻蚀性能.结果表明非晶碳膜对于氧等离子体具有高的抗刻蚀性,其刻蚀率不仅与刻蚀的过程参量有关,而且决定于膜的沉积条件.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宁兆元	苏州大学物理系	70	528	12.0	18.0
2	辛煜	苏州大学物理系	38	176	8.0	10.0
3	叶超	苏州大学物理系	33	244	10.0	14.0
4	程珊华	苏州大学物理系	30	347	11.0	17.0
5	康健	苏州大学物理系	6	46	3.0	6.0
6	马春兰	苏州大学物理系	3	7	1.0	2.0