原文服务方: 现代仪器与医疗       
摘要:
本文采用电感耦合等离子体发射光谱对硅单晶材料中6种金属杂质的分析进行了研究.研究了基体硅对分析元素的干扰影响及校正.采用压力溶样器制备样品,并在低温进行杂质富集,采用ICP-AES对杂质进行了分析,回收率在90%~105%之间.
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文献信息
篇名 ICP-AES测定硅单晶中杂质铬、铜、锰、铝、镉、钼
来源期刊 现代仪器与医疗 学科
关键词 硅单晶 发射光谱 杂质
年,卷(期) 2000,(6) 所属期刊栏目 研究简报
研究方向 页码范围 25-26
页数 2页 分类号 TH83
字数 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1672-7916.2000.06.009
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 王春梅 4 2 1.0 1.0
2 张淑珍 3 2 1.0 1.0
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研究主题发展历程
节点文献
硅单晶
发射光谱
杂质
研究起点
研究来源
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研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
现代仪器与医疗
双月刊
2095-5200
10-1084/TH
大16开
1995-01-01
chi
出版文献量(篇)
3895
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20339
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