软X射线投影光刻原理装置的设计

• 作者: 曹健林 王占山 金春水
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 软X射线投影光刻 多层膜反射镜 软X射线投影光刻原理装置 激光等离子体光源
• 年，卷（期）: 2000,（1）
• 页码范围: 66-70
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2016字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-924X.2000.01.017

摘要

首先介绍了投影光刻技术发展的历程、趋势和软X射线投影光刻技术的特性，其 次介绍了软X射线投影光刻原理装置的研制工作。该装置由激光等离子体光源、掠入射椭球 聚光镜、透射掩模、镀有多层膜的Schwarzchild微缩投影物镜、涂有光刻胶的硅片及相应的 真空系统组成。0.1倍的Schwarzchild微缩投影物镜具有小于0.2μm的分辨率。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	金春水	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	56	202	9.0	11.0
2	曹健林	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	37	328	10.0	17.0
3	王占山	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	9	63	5.0	7.0