亚微米光刻与光掩模新技术现状与研发前景

• 作者: 陈开盛
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 集成电路 信息技术 光刻技术 光刻机 光掩模
• 年，卷（期）: 2000,（5）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 18-21,32
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 5070字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2000.05.005

摘要

介绍了光刻与光掩模技术背景与特征,及其创新技术研发的前景与市场机会.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈开盛		1	0	0.0	0.0