In/HZSM-5催化剂上CH4选择还原NO机理研究

• 作者: 包信和 孙孝英 张涛 林励吾 梁东白 王晓东 马磊
• 来源期刊: 高等学校化学学报
• 学科: 化学
• 关键词: 机理 选择还原 氧化氮 甲烷 In/HZSM-5
• 年，卷（期）: 2000,（7）
• 页码范围: 1105-1107
• 页数: 4页
• 分类号: O643
• 字数: 1888字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0251-0790.2000.07.015

摘要

考察了CH4+O2, NO+CH4(+O2)与NO2+CH4(+O2)反应体系中CH4的转化活性. 结果表明, 浸渍法制备的In/HZSM-5催化剂上CH4选择还原NO过程中, NO2的形成起到了活化甲烷的作用. 根据NO和NO2在In/HZSM-5与HZSM-5样品上的TPD及IR研究结果, 认为在载体HZSM-5的酸性位及In/HZSM-5催化剂的活性中心In位上均可形成NO2, NO2与CH4的反应在In位上进行.